Micropore x-ray optics using anisotropic wet etching of (110) silicon wafers

doi:http://dx.doi.org/10.1364/AO.45.008932

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学術雑誌論文 (Journal Article)

Permalink : http://id.nii.ac.jp/1696/00023645/

Micropore x-ray optics using anisotropic wet etching of (110) silicon wafers 利用統計を見る

アイテムタイプ	学術雑誌論文 / Journal Article
言語	英語
著者	江副祐一郎輿石真樹三田信満田和久星野晶夫石崎欣尚高野貴之前田龍太郎
著者（英）	Ezoe Yuichiro Koshiishi Masaki Mita Makoto Mitsuda Kazuhisa Hoshino Akio Ishisaki Yoshitaka Yang Zhen Takano Takayuki Maeda Ryutaro
著者所属	宇宙航空研究開発機構宇宙科学研究本部（JAXA) (ISAS) 宇宙航空研究開発機構宇宙科学研究本部（JAXA) (ISAS) 宇宙航空研究開発機構宇宙科学研究本部（JAXA) (ISAS) 宇宙航空研究開発機構宇宙科学研究本部（JAXA) (ISAS) 首都大学東京首都大学東京東京都立産業技術研究センター産業技術総合研究所産業技術総合研究所
著者所属（英）	Institute of Space and Astronautical Science, Japan Aerospace Exploration Agency (JAXA)(ISAS) Institute of Space and Astronautical Science, Japan Aerospace Exploration Agency (JAXA)(ISAS) Institute of Space and Astronautical Science, Japan Aerospace Exploration Agency (JAXA)(ISAS) Institute of Space and Astronautical Science, Japan Aerospace Exploration Agency (JAXA)(ISAS) Tokyo Metropolitan University Tokyo Metropolitan University Tokyo Metropolitan Industrial Technology Research Institute National Institute of Advanced Industrial Science and Technology National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
出版者（英）	Optical Society of America
雑誌名	Applied Optics
巻	45
号	35
ページ	8932 - 8938
発行年	2006-12
内容記述（英）	Accepted: 2006-08-07
ISSN	0003-6935
書誌レコードID	AA00543409
DOI	info:doi/10.1364/AO.45.008932
資料番号	資料番号: SA1000327000

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★2020年4月10日

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