Accurate determination of SiO2 film thickness by X-ray photoelectron spectroscopy

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【JAXA Repository リニューアルのお知らせ】

JAXA Repositoryは2020年4月10日より、JAIRO Cloudへ移行いたしました。

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Permalink : http://id.nii.ac.jp/1696/00025292/

アイテムタイプ	学術雑誌論文 / Journal Article
言語	英語
著者	高橋健介野平博司廣瀬和之服部健雄
著者（英）	Takahashi K. Nohira H. Hirose Kazuyuki Hattori T.
著者所属	武蔵工業大学武蔵工業大学宇宙航空研究開発機構宇宙科学研究本部（JAXA) (ISAS) 武蔵工業大学
著者所属（英）	Department of Electrical and Electronic Engineering, Musashi Institute of Technology Department of Electrical and Electronic Engineering, Musashi Institute of Technology Institute of Space and Astronautical Science, Japan Aerospace Exploration Agency (JAXA)(ISAS) Department of Electrical and Electronic Engineering, Musashi Institute of Technology
出版者（英）	American Institute of Physics
雑誌名	Applied Physics Letters
巻	83
号	16
ページ	3422 - 3424
発行年	2003-10
内容記述（英）	Accepted: 2003-08-07
ISSN	0003-6951
書誌レコードID	AA00543431
DOI	info:doi/10.1063/1.1616204
資料番号	資料番号: SA1002000000

★2020年12月2日

システムメンテナンスのお知らせ

12月10日（木）15:00-18:00の作業時間中、1～1時間半程度、サイトを閉鎖させていただきます。ご利用の皆様にはご迷惑をおかけいたしますが、よろしくお願いします。

★2020年4月10日
【JAXA Repository リニューアルのお知らせ】
JAXA Repositoryは2020年4月10日より、JAIRO Cloudへ移行いたしました。

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