Application of XPS time-dependent measurement to the analysis of charge trapping phenomena in HfAlOx films

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【JAXA Repository リニューアルのお知らせ】

JAXA Repositoryは2020年4月10日より、JAIRO Cloudへ移行いたしました。

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Permalink : http://id.nii.ac.jp/1696/00025303/

アイテムタイプ	学術雑誌論文 / Journal Article
言語	英語
著者	廣瀬和之山脇師之鳥居和功川原孝昭川尻智司服部健雄
著者（英）	Hirose Kazuyuki Yamawaki M. Torii K. Kawahara T. Kawashiri S. Hattori T.
著者所属	宇宙航空研究開発機構宇宙科学研究本部（JAXA) (ISAS) 総合研究大学院大学半導体先端テクノロジーズ半導体先端テクノロジーズ武蔵工業大学武蔵工業大学
著者所属（英）	Institute of Space and Astronautical Science, Japan Aerospace Exploration Agency (JAXA)(ISAS) Graduate University for Advanced Studies Semiconductor Leading Edge Technologies Semiconductor Leading Edge Technologies Musashi Institute of Technology Musashi Institute of Technology
出版者（英）	Elsevier
雑誌名	Applied Surface Science
巻	237
号	1-4
ページ	411 - 415
発行年	2004-10
ISSN	0169-4332
書誌レコードID	AA10503400
DOI	info:doi/10.1016/j.apsusc.2004.06.094
資料番号	資料番号: SA1002011000

★2020年4月10日

【JAXA Repository リニューアルのお知らせ】
JAXA Repositoryは2020年4月10日より、JAIRO Cloudへ移行いたしました。

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