Characterization of SiO2/Si interfaces by using X-ray photoelectron spectroscopy time-dependent measurement

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【JAXA Repository リニューアルのお知らせ】

JAXA Repositoryは2020年4月10日より、JAIRO Cloudへ移行いたしました。

移行前のURLでブックマークされていた方は、新しいURLで新たにブックマークをお願いいたします。

なお、AIREXは以前と同じURLにて公開しております。


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インデックス

Permalink : http://id.nii.ac.jp/1696/00025334/

アイテムタイプ	学術雑誌論文 / Journal Article
言語	英語
著者	廣瀬和之坂野公彦高橋健介服部健雄
著者（英）	Hirose Kazuyuki Sakano K. Takahashi K. Hattori T.
著者所属	宇宙科学研究所武蔵工業大学武蔵工業大学武蔵工業大学
著者所属（英）	Institute of Space and Astronautical Science (ISAS) Department of Electrical and Electronic Engineering, Musashi Institute of Technology Department of Electrical and Electronic Engineering, Musashi Institute of Technology Department of Electrical and Electronic Engineering, Musashi Institute of Technology
出版者（英）	Elsevier
雑誌名	Surface Science
巻	507-510
ページ	906 - 910
発行年	2002-06
ISSN	0039-6028
書誌レコードID	AA00853803
DOI	info:doi/10.1016/S0039-6028(02)01370-5
資料番号	資料番号: SA1002042000

★2020年12月2日

システムメンテナンスのお知らせ

12月10日（木）15:00-18:00の作業時間中、1～1時間半程度、サイトを閉鎖させていただきます。ご利用の皆様にはご迷惑をおかけいたしますが、よろしくお願いします。

★2020年4月10日
【JAXA Repository リニューアルのお知らせ】
JAXA Repositoryは2020年4月10日より、JAIRO Cloudへ移行いたしました。

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なお、AIREXは以前と同じURLにて公開しております。

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