Iridium-Coated Micropore X-ray Optics Using Dry Etching of a Silicon Wafer and Atomic Layer Deposition

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Permalink : http://id.nii.ac.jp/1696/00028149/

アイテムタイプ	学術雑誌論文 / Journal Article
言語	英語
著者	小川智弘江副祐一郎森山鉄平三石郁之垣内巧也大橋隆哉満田和久 Putkonen Matti
著者（英）	Ogawa Tomohiro Ezoe Yuichiro Moriyama Teppei Mitsuishi Ikuyuki Kakiuchi Takuya Ohashi Takaya Mitsuda Kazuhisa Putkonen Matti
著者所属	首都大学東京首都大学東京首都大学東京首都大学東京首都大学東京首都大学東京宇宙航空研究開発機構宇宙科学研究所（JAXA)(ISAS) 宇宙物理学研究系 VTT Technical Research Centre of Finland : School of Chemical Technology, Aalto University
著者所属（英）	Department of Physics, Tokyo Metropolitan University Department of Physics, Tokyo Metropolitan University Department of Physics, Tokyo Metropolitan University Department of Physics, Tokyo Metropolitan University Department of Physics, Tokyo Metropolitan University Department of Physics, Tokyo Metropolitan University Department of Space Astronomy and Astrophysics, Institute of Space and Astronautical Science, Japan Aerospace Exploration Agency (JAXA)(ISAS) VTT Technical Research Centre of Finland : School of Chemical Technology, Aalto University
出版者（英）	Optical Society of America
雑誌名	Applied Optics
巻	52
号	24
ページ	5949 - 5956
発行年	2013-08-20
内容記述（英）	Accepted: 2013-07-18
ISSN	0003-6935
書誌レコードID	AA00543409
DOI	info:doi/10.1364/AO.52.005949
資料番号	資料番号: SA1004863000

★2023年5月16日

【JAXA Repository 情報更新停止のお知らせ】

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