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  1. シンポジウム・研究会
  2. 高温エレクトロニクス研究会
  3. 第6回
  1. コンテンツタイプ
  2. 会議発表論文/会議発表用資料 (Conference Paper/Presentation)

SiC素子技術:イオン注入、電極形成(ICSCRM-95の報告より)

https://jaxa.repo.nii.ac.jp/records/2002649
https://jaxa.repo.nii.ac.jp/records/2002649
b3d9d36f-0d01-4dae-b5c0-2ba8d4ea79fb
アイテムタイプ WEKO3_シンポジウム等 / Symposium(1)
公開日 2026-03-12
タイトル
タイトル SiC素子技術:イオン注入、電極形成(ICSCRM-95の報告より)
言語 ja
タイトル
タイトル Ion Implantation and Electrode Formation Techniques in ICSCRM-95
言語 en
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_5794
資源タイプ conference paper
アクセス権
アクセス権 metadata only access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_14cb
著者 中田, 俊武

× 中田, 俊武

ja 中田, 俊武
株式会社イオン工学研究所

en NAKATA, Toshitake
Ion Engineering Research Institute Corporation

Search repository
井上, 森雄

× 井上, 森雄

ja 井上, 森雄
株式会社イオン工学研究所

en INOUE, Morio
Ion Engineering Research Institute Corporation

Search repository
著者所属
著者所属 株式会社イオン工学研究所(ja), 株式会社イオン工学研究所(ja)
Ion Engineering Research Institute Corporation(en), Ion Engineering Research Institute Corporation(en)
出版者
出版者 宇宙科学研究所 (ISAS)(ja)
Institute of Space and Astronautical Science (ISAS)(en)
bibliographic_information ja : 第6回高温エレクトロニクス研究会
en : Proceedings of the 6th ISAS Research Meeting on HIGH TEMPERATURE ELECTRONICS

発行日 1996-03
会議概要
会議名 第6回高温エレクトロニクス研究会(ja)
6th ISAS Research Meeting on HIGH TEMPERATURE ELECTRONICS(en)
開催期間 1996-03-12
開催会場 宇宙科学研究所 (ISAS), 相模原市, 神奈川県(ja)
Institute of Space and Astronautical Science (ISAS), Sagamihara, Kanagawa Japan(en)
開催国 JPN
資料番号(Local)
関連識別子 資料番号: SA6000224010
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Ver.1 2026-02-27 07:42:35.574081
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