@techreport{oai:jaxa.repo.nii.ac.jp:00002779,
 author = {芳仲, 敏成 and Yoshinaka, Toshinari},
 month = {Mar},
 note = {超高温材料研究センターの酸化揮散試験機を用いて高純度CVD-SiCの静的加熱試験を実施する際に、装置各部で大きな温度分布が生じることが考えられる。装置各部で生じる現象を予測し、結果の評価などに活用可能なデータを得るために濃度分布測定を行なったので報告する。, 資料番号: AA0046965000, レポート番号: JAXA-RM-03-012},
 title = {高純度CVD-SiC静的加熱試験時の温度分布計測},
 year = {2004}
}